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臺式勻膠機(jī)采用先進(jìn)的設(shè)計理念，與精確的運動控制系統(tǒng)配合，實現(xiàn)高精度、均勻的均質(zhì)操作。它配有溫度控制系統(tǒng)，具有良好的溫度控制均勻性?？蓪崿F(xiàn)加熱時均化功能。操作界面可存儲10組程序，每組程序可達(dá)到10個步驟。速度和旋轉(zhuǎn)時間等操作參數(shù)可以實時顯示。臺式勻膠機(jī)使用時的注意事項：1、請使用機(jī)身的電源；2、防止電源線壓在機(jī)器底部，以免損壞電源線造成觸電；3、每次啟動前，注意抬起“控制”和“吸入”鍵，防止電機(jī)在未啟動時旋轉(zhuǎn)；4、不同的板材應(yīng)選擇不同規(guī)格的不同板材夾持器。板材不得小于板材夾持...

實驗室涂膜機(jī)用于鋰離子電池正負(fù)極板的連續(xù)涂布工藝，適用于大學(xué)和企業(yè)的小型實驗；也可用于陶瓷膜、晶體膜、特殊納米膜等；機(jī)身由不銹鋼制成，美觀耐用。表面噴塑，操作方便。實驗室涂膜機(jī)的主要特點：1、涂層電機(jī)為永磁低速同步電機(jī)；2、滾珠絲杠和直線導(dǎo)軌僅從中國臺灣進(jìn)口；3、涂膜器刮板由SUS316L不銹鋼制成；4、膠片速度可在0~100mm/s范圍內(nèi)調(diào)節(jié)，數(shù)字顯示；5、溫度控制器采用PID智能LID數(shù)顯表；6、真空鋁盤，可快速放置或取出極片。實驗室涂膜機(jī)的使用方法：1、確認(rèn)前兩步后，插...

勻膠機(jī)旋涂儀主要用于微加工、半導(dǎo)體、微電子、光電子和納米技術(shù)工藝中的光刻、烘焙和其他設(shè)備，如硅芯片和陶瓷芯片上的均化膠。均勻膠旋涂儀器價格低廉，操作簡單，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，為實驗室提供了理想的解決方案。它可以在很大程度上確保均勻的旋涂；可以旋涂不同尺寸的基材。勻膠機(jī)旋涂儀通過在片材保持器上產(chǎn)生負(fù)壓來吸收待旋涂在片材固定器上的基材，并且膠滴到基材表面上。離心力通過精確調(diào)節(jié)電機(jī)的轉(zhuǎn)速而改變。同時，膠水流由滴膠裝置控制，以達(dá)到薄膜制備所需的厚度。此外，膜厚度還取決于環(huán)境因素，如...

紫外清洗機(jī)不需要任何溶劑，也不會損壞清潔表面。去除大多數(shù)無機(jī)基板中的有機(jī)污染物。該清洗機(jī)提供了一種高效、精確的清洗方法，也是一種非常重要的表面改性技術(shù)。應(yīng)用于表面處理、有機(jī)清洗、提高表面親水性、降低表面接觸角、增加表面附著力、增強(qiáng)表面功函數(shù)等。紫外清洗機(jī)的工作原理：通過產(chǎn)生185nm和254nm高強(qiáng)度UV光分解有機(jī)分子(污染物)。185nm的光可以將氧分子O2轉(zhuǎn)變成活性的O3臭氧分子。254nm的光同時激發(fā)表面的有機(jī)分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時間短...

實驗室等離子清洗機(jī)是一項新的高科技技術(shù)，它使用等離子來達(dá)到傳統(tǒng)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子清洗機(jī)應(yīng)用廣泛。接下來就給大家介紹一下實驗室等離子清洗機(jī)的優(yōu)勢有哪些？實驗室等離子清洗機(jī)的設(shè)備優(yōu)勢：1、等離子體清洗后，清洗對象干燥，無需進(jìn)一步干燥即可進(jìn)入下一工序?？梢蕴岣哒麄€工藝管線的處理效率；2、等離子清洗使用戶避免了有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗時清洗物易清洗的問題；3、避免使用有害的ODS溶劑，如三氯乙烷，以免清洗后產(chǎn)生有害污染物。因此，這種清潔方法是一種環(huán)保的綠...

紫外清洗機(jī)通常用于掃描探針顯微鏡的樣品應(yīng)用?？捎糜谠恿︼@微鏡探頭、掃描探針顯微鏡標(biāo)準(zhǔn)探頭、表面常規(guī)油層及殘留無機(jī)材料的清洗。它還可用于改變物體表面的疏水性，這有利于零件和表面的化學(xué)改性。紫外清洗機(jī)的保養(yǎng)要點：1、使用紫外線滅菌器的最佳條件水溫：5℃-50℃；相對溫度：不超過93%；電壓：220±10v50hz；進(jìn)入處理設(shè)備的飲用水水質(zhì)具有95%-100%的透射率。如果待處理水質(zhì)低于國家標(biāo)準(zhǔn)，如色度高于15度，濁度高于5度，鐵含量高于0.3mg/L，應(yīng)先采用其他...

勻膠機(jī)旋涂儀廣泛應(yīng)用于MEMS微加工、生物、材料等領(lǐng)域。它可用于制備厚度小于10nm的薄膜。它也常用于厚度約為1-100微米的光刻膠沉積層的光刻工藝中。許多平面基板材料可用于涂層，如半導(dǎo)體硅片、載玻片、晶片、基板、ITO導(dǎo)電玻璃等。勻膠機(jī)旋涂儀的工作原理：通過在晶片支架上產(chǎn)生負(fù)壓，待旋涂的基材吸附在晶片架上，膠水滴在基材表面。通過精確調(diào)節(jié)電機(jī)的轉(zhuǎn)速來改變離心力。同時，滴膠裝置控制膠水的流速，以達(dá)到制備薄膜所需的厚度。此外，涂膜厚度還取決于旋涂時間、膠液粘度、涂膜溫度和濕度等環(huán)...